Dongguan Haikun New Material Co., Ltd.

disipador de calor enfriamiento nitruro de silicio sustrato de cerámica

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Incoterm:
FOB
Cantidad de pedido mínima:
1 Piece/Pieces
transporte:
Ocean,Land,Air
Hafen:
Shenzhen
  • Descripción
Overview
Atributos del producto

ModeloSi3N4 116

MarcaDifícil

Capacidad de suministro e información a...

PaquetePersonalizado

transporteOcean,Land,Air

Lugar de origenGuangdong, China

Apoyo sobre1,000,000 pcs/Month

Certificados SGS

HafenShenzhen

Tipo de PagoL/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union

IncotermFOB

Embalaje y entrega
Unidades de venta:
Piece/Pieces
Tipo de paquete:
Personalizado

disipador de calor enfriamiento nitruro de silicio sustrato de cerámica

La reputación depende de la calidad, ¡la calidad proviene de Hard!


Nitruro de Silicio Cerámico:

La película anodizada se compone de dos capas, y la capa externa gruesa porosa se cultiva en una capa interna densa que tiene propiedades dieléctricas, y esta última se llama capa de barrera (también llamada capa activa). La observación por microscopía electrónica reveló que las caras longitudinales y laterales de la capa de película casi todos mostraban agujeros tubulares perpendiculares a la superficie del metal, que penetraron en la capa externa de la película hasta la capa de barrera entre la película de óxido y la interfaz metálica. La alúmina porosa está rodeada de alúmina densa para formar un cuerpo hexagonal en forma de panal llamado celda unitaria, y toda la capa de película está compuesta por una miríada de dichas celdas unitarias. La capa de barrera está compuesta de óxido de aluminio anhidro, que es delgado y denso, tiene una alta dureza y evita el paso de corriente eléctrica. La capa de barrera tiene un grosor de aproximadamente 0.03-0.05 μm, que es 0.5% a 2.0% después de la película total. La capa externa porosa de la película de óxido está compuesta principalmente de alúmina amorfa y una pequeña cantidad de alúmina hidratada, y además contiene un catión del electrolito. Cuando el electrolito es ácido sulfúrico, el contenido de sulfato en la capa de película es normalmente del 13% al 17%. La mayoría de las excelentes propiedades de la película de óxido están determinadas por el grosor y la porosidad de la capa externa porosa, y todas están estrechamente relacionadas con la condición de anodización. El anodizado se divide en formas actuales: anodización de corriente continua, anodización de corriente alterna y anodización de corriente de pulso. Según el electrolito, hay oxidación anódica natural de ácido sulfúrico, ácido oxálico, ácido crómico, ácido mixto y ácido sulfoorgánico como la solución principal. Según la capa de película, hay anodización, como una película común, una película dura (película gruesa), una película de porcelana, una capa de modificación brillante y una capa de barrera para la acción de semiconductores. Los métodos de anodización comunes y las condiciones del proceso para el aluminio y las aleaciones de aluminio se muestran en la Tabla 5. Entre ellos, la aplicación de la anodización con ácido sulfúrico de corriente continua es común.
Si3N4 chip

propiedades :

Alta dureza, alta resistencia, resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión, alta temperatura (1200 ° ), buena difusividad térmica, buena resistencia al choque térmico (evite que la temperatura cambie rápidamente), buena aislación, baja densidad. Las propiedades integrales son las mejores en la mayoría de las estructuras cerámicas.


Hoja de datos ↓

Color: negro gris
Densidad: > 3.2g / cm3
Dureza: HRA90
Dureza Vickers (Hv50): > 1550 HV0.5
Módulo de elasticidad: 290Gpa
Resistencia a la flexión: > 600Mpa
Resistencia a la compresión: 2500Mpa
Módulo de elasticidad (25 ° C): 65Gpa
Resistencia a la fractura: > 6.0 Mpam1 / 2
Temperatura máxima de uso: 1200 ° C
Conductividad térmica: 15-20 W (mK)
Coeficiente de expansión térmica: > 3.1 10-6 / ° C
Resistencia al choque térmico: 500 △ T ° C
Capacidad de calor especial: 700 KJ / kg.K
Rigidez dieléctrica: 1 KV / mm
Constante dieléctrica: er
Resistividad de volumen (20 ° C): 1.0 * 10 (12) Ω.cm

Industria de aplicación :

Maquinaria, electrónica, semiconductores, química, petróleo, fundido.


Aplicación específica:

Eje de soldadura, sustrato electrónico, émbolo, boquilla, guía deslizante, piezas diesel, molduras de metal, ruedas de eje, etc.


¿Por qué elegirnos?
1.12 años de producción profesional de fábrica de cerámica industrial
2. Productos de alta calidad con bajo precio
3. Piezas de alta precisión con menor tolerancia
4. corto tiempo para la producción
5.Tiene un grupo de equipo de I + D experimentado, profesional y eficiente
6. Tiene una buena reputación en China y en el extranjero.

7. MOQ no está limitado, pequeña cantidad es bienvenida.

8. equipo vigoroso y buen servicio post-venta


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silicon nitride



Manufacturing Process


Preguntas más frecuentes

P: ¿Es usted una empresa comercial o fabricante?
A: somos fábrica.

P: ¿Cuánto dura el tiempo de entrega?
A: generalmente es 5-10 días si las mercancías están en stock. o es de 15-30 días si los productos no están en stock, es de acuerdo a la cantidad.

P: ¿Proporcionan muestras? ¿es gratis o extra?
R: Sí, podríamos ofrecer la muestra de forma gratuita, pero no pagar el costo del flete.
P: ¿Cuáles son sus condiciones de pago?

A: Pago <= 1000USD, 100% por adelantado. Pago> = 1000USD, 50% T / T por adelantado, saldo antes del envío.

PRODUCTOS POR GRUPO : Cerámica de nitruro de silicio > Disco de cerámica de nitruro de silicio

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